FÍSICA APLICADA
Saila
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique
Grenoble, FranciaInstitut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique-ko ikertzaileekin lankidetzan egindako argitalpenak (2)
2010
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A solution for an ideal planar multi-gates process for ultimate CMOS?
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM
2004
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New magnetoresistance method for mobility extraction in scaled fully-depleted SOI devices
Proceedings - IEEE International SOI Conference