FÍSICA APLICADA Y TECNOLOGÍA
Escola de doctorat
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique
Grenoble, FranciaPublicacions en col·laboració amb investigadors/es de Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique (2)
2010
-
A solution for an ideal planar multi-gates process for ultimate CMOS?
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM
2004
-
New magnetoresistance method for mobility extraction in scaled fully-depleted SOI devices
Proceedings - IEEE International SOI Conference