FÍSICA APLICADA Y TECNOLOGÍA
Escuela de doctorado
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique
Grenoble, FranciaPublicaciones en colaboración con investigadores/as de Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique (2)
2010
-
A solution for an ideal planar multi-gates process for ultimate CMOS?
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM
2004
-
New magnetoresistance method for mobility extraction in scaled fully-depleted SOI devices
Proceedings - IEEE International SOI Conference