Bilayer h-BN barriers for tunneling contacts in fully-encapsulated monolayer MoSe2 field-effect transistors

  1. Ghiasi, T.S.
  2. Quereda, J.
  3. Van Wees, B.J.
Zeitschrift:
2D Materials

ISSN: 2053-1583

Datum der Publikation: 2019

Ausgabe: 6

Nummer: 1

Art: Artikel

DOI: 10.1088/2053-1583/AADF47 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor