5 kV multielectron beam lithography: MAPPER tool and resist process characterization

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Zeitschrift:
Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics

ISSN: 2166-2754,  2166-2746

Datum der Publikation: 2010

Ausgabe: 28

Nummer: 6

Art: Artikel

DOI: 10.1116/1.3517664 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus