5 kV multielectron beam lithography: MAPPER tool and resist process characterization

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Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics

ISSN: 2166-2754,  2166-2746

Año de publicación: 2010

Volumen: 28

Número: 6

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.3517664 GOOGLE SCHOLAR
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